1、吊頂需是專為優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化無(wú)塵車(chē)間工程設(shè)計(jì)的系統(tǒng)，以便于安裝簡(jiǎn)易快速、堅(jiān)固、美觀。有干、濕兩類。干吊頂用于高效過(guò)濾風(fēng)機(jī)系統(tǒng)，濕系統(tǒng)用于回風(fēng)空調(diào)箱帶高效過(guò)濾風(fēng)口系統(tǒng)。2、濕吊頂須用密封膠密封。3、武鳴手術(shù)室凈化無(wú)塵車(chē)間工程中的車(chē)間墻為鋁合金板材，拆裝靈活。4、提升地板根據(jù)潔凈等級(jí)對(duì)換氣次數(shù)的要求不同，帶孔板的覆蓋率不同。安裝提升地板時(shí)，應(yīng)先確定立柱的定位，用專用膠將柱固定在環(huán)氧地面上，并在膠干后測(cè)試其牢固程度。5、所有提升地板內(nèi)管線不可在安裝立柱前施工。

咱們有必要在規(guī)劃和選用資料時(shí)就選用不易發(fā)作靜電，或發(fā)作靜電能敏捷泄漏的資料。優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化在以往的規(guī)劃中咱們?yōu)榱耸轨o電電荷有敏捷逃逸的通路，通常只重視對(duì)地板的效果，即選用防靜電地板來(lái)消除靜電。并且只把體系電阻值約束在105—108歐姆之間來(lái)作為衡量防靜電的規(guī)范，如今看來(lái)是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。如今歐美、日本等國(guó)家在規(guī)劃潔凈室時(shí)現(xiàn)已不局限于防靜電地板了，對(duì)武鳴手術(shù)室凈化潔凈室間隔、墻面及潔凈的構(gòu)造體系等都思考在內(nèi)。如今在規(guī)劃時(shí)咱們也會(huì)充沛思考到防靜電的請(qǐng)求，如選用噴涂靜電涂料、防靜電蠟等來(lái)作為輔佐辦法或彌補(bǔ)辦法來(lái)戰(zhàn)勝靜電。使?jié)崈羰也话l(fā)作或少發(fā)作靜電。

武鳴手術(shù)室凈化無(wú)塵車(chē)間的圍護(hù)結(jié)構(gòu)和室內(nèi)裝修材料宜選用氣密性良好，同時(shí)在溫度、濕度等變化時(shí)，本身變形小的材料；墻壁和頂棚表面應(yīng)光潔平整、不起灰、不落塵、耐腐蝕、耐沖擊、易清洗。為了使無(wú)塵車(chē)間的建筑表面盡量少積灰、易清掃，應(yīng)在建筑構(gòu)造上避免或減少凹凸面，墻面與地面、墻面與頂棚、墻面與墻面的相接處也不宜做成一般的直角，宜做成半徑大于或等于50mm的圓角。優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化壁面涂層的色彩要和諧、雅致、素淡，以便于顯現(xiàn)壁面上的污染物。同樣，地面也應(yīng)做到平整、無(wú)縫隙、耐磨、耐腐蝕、耐沖擊、不積聚靜電、易除塵清洗。

防止從相鄰的潔凈度較低區(qū)域向無(wú)塵室傳達(dá)污染的首要辦法是：保持高潔凈度區(qū)域有關(guān)于低潔凈度區(qū)域、手術(shù)室凈化工程低潔凈度區(qū)域有關(guān)于效勞區(qū)域、效勞區(qū)域有關(guān)于室外有一個(gè)適宜的正壓值。這么就可削減由室外向效勞區(qū)域，效勞區(qū)域向低等級(jí)無(wú)塵室，低等級(jí)無(wú)塵室向高等級(jí)武鳴優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化無(wú)塵室傳達(dá)空氣中的懸浮污染物。正壓值并非越大越好，很多理論研討和實(shí)習(xí)都證實(shí)，人員、物料經(jīng)過(guò)門(mén)時(shí)，即使門(mén)兩邊關(guān)門(mén)壓差高達(dá)50Pa~60Pa，仍難肯定防止隨人員、物料向內(nèi)移動(dòng)時(shí)的帶著氣流將污染帶入室內(nèi)。特別是當(dāng)門(mén)兩邊存在溫度差時(shí)，門(mén)打開(kāi)后，即使無(wú)人走動(dòng)，在開(kāi)口斷面有些面積上也存在逆向氣流，帶入空氣的污染物。

優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化無(wú)塵車(chē)間裝修標(biāo)準(zhǔn)按照國(guó)際慣例,無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂手術(shù)室凈化工程無(wú)塵并非100%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵,而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微,但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言,哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)面影響,所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上,無(wú)塵是必然的要求。每立方米將小于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個(gè)以下,就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用在芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于灰塵的要求高于A級(jí),這樣的高標(biāo)主要被應(yīng)用在一些等級(jí)較高芯片生產(chǎn)上。微塵數(shù)量被嚴(yán)格控制在每立方米1000個(gè)以內(nèi),這也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級(jí)別。