深圳手術(shù)室凈化無塵凈化車間的溫濕度主要是依據(jù)您的加工工藝請求來肯定，在滿足加工工藝的條件下，必選應(yīng)該思索人的溫馨感。隨著空氣干凈度請求的進步，工藝對溫濕度的請求也越來越高，必需到達一定的溫濕度等級。例如在大范圍集成電路消費的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數(shù)的差請求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化這種車間不宜超越25度?！穸蛇^高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，假如發(fā)作在精細安裝或電路中，就會惹起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。

深圳手術(shù)室凈化設(shè)計潔凈室、潔凈區(qū)的潔凈度主要是靠送入足夠量的潔凈空氣，以排替、稀釋室內(nèi)產(chǎn)生的顆粒污染物來實現(xiàn)的。為此，測定潔凈室或潔凈設(shè)施的送風(fēng)量、平均風(fēng)速、送風(fēng)均勻性、氣流流向及流型等項目十分必要。優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化單向流主要是依靠潔凈氣流推擠、排替室內(nèi)、區(qū)內(nèi)的污染空氣以維持室內(nèi)、區(qū)內(nèi)的潔凈度。因此，其送風(fēng)斷面風(fēng)速及均勻性是影響潔凈度的重要參數(shù)。較高的、較均勻的斷面風(fēng)速能更快、更有效地排除室內(nèi)工藝過程產(chǎn)生的污染物，因此它們是主要關(guān)注的檢測項目。非單向流主要是靠送入的潔凈空氣來沖淡與稀釋室內(nèi)、區(qū)內(nèi)的污染物以維持其潔凈度。為了獲得可重復(fù)的讀數(shù)，記錄各測點風(fēng)速的時間平均值。換氣次數(shù)：根據(jù)潔凈室總風(fēng)量除以法凈室的容積求得。

深圳手術(shù)室凈化潔凈度等級請求高,風(fēng)量、溫度、濕度、壓差、設(shè)備排風(fēng)按需受控,照度、潔凈室截面風(fēng)速按規(guī)劃或標(biāo)準(zhǔn)受控，另外該類潔凈室對靜電請求極端嚴(yán)厲。其間對濕度的請求尤甚。由于過于枯燥的廠房內(nèi)很容易產(chǎn)生靜電，形成CMOS集成損壞。一般來說，優(yōu)質(zhì)手術(shù)室凈化電子廠房的溫度應(yīng)操控在22℃左右，相對濕度操控在50-60%之間（特別無塵車間有有關(guān)溫濕度規(guī)則）。 這時可有效地消除靜電，并使人也感受舒服。芯片出產(chǎn)車間、集成電路無塵室和磁盤制作車間是歸于電子制作職業(yè)潔凈室的重要組成有些，由于電子產(chǎn)品在制作、出產(chǎn)進程中對室內(nèi)空氣環(huán)境和質(zhì)量的請求極為嚴(yán)厲，首要以操控微粒和浮塵為首要目標(biāo)，同時還對其環(huán)境的溫濕度、新鮮空氣量、噪聲等作出了嚴(yán)厲的規(guī)則。

潔凈室或潔凈設(shè)施溫、濕度測定，手術(shù)室凈化設(shè)計通常分為兩個檔次：一般測試和綜合測試。第一個檔次適用于處于空態(tài)的交竣驗收測試，第二個檔次適用于靜態(tài)或動態(tài)的綜合性能測試。這類測試適用于對溫度、濕度性能要求比較嚴(yán)格的場合。本檢測在氣流均勻性檢測之后和空調(diào)系統(tǒng)調(diào)整之后進行。進行這項檢測時，空調(diào)系統(tǒng)已經(jīng)充分運轉(zhuǎn)，各項狀況已經(jīng)穩(wěn)定。深圳手術(shù)室凈化每個濕度控制區(qū)至少設(shè)置一個濕度傳感器，并且給傳感器充分的穩(wěn)定時間。所做測量應(yīng)適合實際使用的目的，待傳感器穩(wěn)定之后才開始測量，測量時間不少于5分鐘。